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  • 16
    2025-07

    激光粒度儀測粒徑原理:光散射技術(shù)與顆粒表征的核心解析

    激光粒度儀通過光散射物理現(xiàn)象實現(xiàn)顆粒尺寸的精準(zhǔn)測量,其技術(shù)本質(zhì)是激光與顆粒相互作用的能量空間分布解析。當(dāng)單色激光束穿透分散的顆粒群時,不同尺寸的顆粒對光波的散射行為呈現(xiàn)顯著差異——這種差異被精密的光電 ...

  • 16
    2025-07

    激光粒度儀測粒徑原理:光散射技術(shù)與顆粒表征的核心解析

    激光粒度儀通過光散射物理現(xiàn)象實現(xiàn)顆粒尺寸的精準(zhǔn)測量,其技術(shù)本質(zhì)是激光與顆粒相互作用的能量空間分布解析。當(dāng)單色激光束穿透分散的顆粒群時,不同尺寸的顆粒對光波的散射行為呈現(xiàn)顯著差異——這種差異被精密的光電 ...

  • 09
    2025-07

    基于LEDLS技術(shù)的二氧化硅拋光液濃度與粒徑精準(zhǔn)表征

    關(guān)鍵詞:CMP拋光液、濃度檢測、體積分?jǐn)?shù)、LEDLS技術(shù)、BeNano 180 Zeta Max一、濃度檢測的工業(yè)意義在半導(dǎo)體制造中,二氧化硅拋光液濃度直接影響CMP(化學(xué)機械拋光)工藝質(zhì)量:濃度過高 ...

  • 09
    2025-07

    基于LEDLS技術(shù)的二氧化硅拋光液濃度與粒徑精準(zhǔn)表征

    關(guān)鍵詞:CMP拋光液、濃度檢測、體積分?jǐn)?shù)、LEDLS技術(shù)、BeNano 180 Zeta Max一、濃度檢測的工業(yè)意義在半導(dǎo)體制造中,二氧化硅拋光液濃度直接影響CMP(化學(xué)機械拋光)工藝質(zhì)量:濃度過高 ...

  • 02
    2025-07

    基于透射光路法的液體折射率高精度檢測

    關(guān)鍵詞:液體折射率(RI)、光散射測試、BeNano 180 Zeta Max、透射光路法、分散體系一、折射率檢測的重要性在動態(tài)/靜態(tài)光散射(DLS/SLS)及電泳光散射測試中,分散液的折射率(RI) ...

  • 02
    2025-07

    基于透射光路法的液體折射率高精度檢測

    關(guān)鍵詞:液體折射率(RI)、光散射測試、BeNano 180 Zeta Max、透射光路法、分散體系一、折射率檢測的重要性在動態(tài)/靜態(tài)光散射(DLS/SLS)及電泳光散射測試中,分散液的折射率(RI) ...

  • 18
    2025-06

    基于靜態(tài)光散射流動模式的單抗IgG分子量及聚集態(tài)分析

    一、技術(shù)原理BeNano靜態(tài)流動模式通過與凝膠滲透色譜(SEC/GPC)聯(lián)用,實現(xiàn)對生物大分子(如單克隆抗體IgG)的精準(zhǔn)分離與絕對分子量測定。其工作流程如下:分離階段:SEC色譜柱(如TSK氧化硅柱 ...

  • 18
    2025-06

    基于靜態(tài)光散射流動模式的單抗IgG分子量及聚集態(tài)分析

    一、技術(shù)原理BeNano靜態(tài)流動模式通過與凝膠滲透色譜(SEC/GPC)聯(lián)用,實現(xiàn)對生物大分子(如單克隆抗體IgG)的精準(zhǔn)分離與絕對分子量測定。其工作流程如下:分離階段:SEC色譜柱(如TSK氧化硅柱 ...

  • 11
    2025-06

    激光粒度儀在材料表征中的作用是什么?

    一、技術(shù)原理:多尺度顆粒體系的解碼器靜態(tài)光散射技術(shù)通過測量顆粒群對激光的散射角度與光強分布,反演微米至毫米級顆粒的粒度分布,適用于粉體、漿料等寬分布體系典型應(yīng)用案例:陶瓷原料粉體通過粒度分布控制,可優(yōu) ...

  • 11
    2025-06

    激光粒度儀在材料表征中的作用是什么?

    一、技術(shù)原理:多尺度顆粒體系的解碼器靜態(tài)光散射技術(shù)通過測量顆粒群對激光的散射角度與光強分布,反演微米至毫米級顆粒的粒度分布,適用于粉體、漿料等寬分布體系典型應(yīng)用案例:陶瓷原料粉體通過粒度分布控制,可優(yōu) ...